靶材如何進(jìn)行分類和應(yīng)用,石墨靶材會(huì)在哪個(gè)分類和應(yīng)用領(lǐng)域
時(shí)間:2023-06-29瀏覽次數(shù):1770靶材這種產(chǎn)品很多人聽了,都應(yīng)該會(huì)很陌生,而靶材的應(yīng)用領(lǐng)域相當(dāng)廣泛,如半導(dǎo)體、顯示面板、電子、光學(xué)等,而靶材是有不同材料的,像石墨靶材、金屬靶材、陶瓷靶材,不同材料的靶材在應(yīng)用領(lǐng)域上不同,接下來看看靶材如何進(jìn)行分類和應(yīng)用,石墨靶材會(huì)在哪個(gè)分類和應(yīng)用領(lǐng)域。
靶材限制了薄膜的物理機(jī)械性能,影響涂層的質(zhì)量。因此,靶材的質(zhì)量評價(jià)比較嚴(yán)格,主要需要滿足以下要求:
1、質(zhì)量低:純度高,靶材純度影響薄膜的均勻性。
2、密度:高密度靶材具有導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性好、強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn)。該靶材用于鍍膜時(shí),濺射功率小,沉積速率快??,膜層不易破裂,靶材壽命長,濺射薄膜電阻率低,透過率高。
3、分布均勻:組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材材料的均勻成分是確保一致的涂層質(zhì)量的關(guān)鍵因素。
4、粒徑?。喊胁木Я3叽缭郊?xì),濺射薄膜的膜厚分布越均勻,濺射速度越快。
制造工藝
目前,靶材制造主要有鑄造和粉末冶金兩種。
粉末冶金法:
將一定成分比的合金原料熔化,注入鑄錠,然后粉碎。優(yōu)點(diǎn)是靶材成分均勻。缺點(diǎn)是密度低。由于雜質(zhì)含量高等原因,常用的粉末冶金工藝有冷壓、真空熱壓和熱等靜壓。
鑄造方法:
這是一種將一定成分比的合金原料熔化,將合金溶液倒入模具中制成鑄錠,后面通過機(jī)械加工制成靶材,然后在真空中熔化鑄造的鑄造方法。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉、真空電子沖擊熔煉等。優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量(特別是氣體雜質(zhì)含量、低、密度高、可大規(guī)模生產(chǎn)。缺點(diǎn)是熔點(diǎn)和密度相差較大。在兩種或兩種以上大金屬的情況下,通過普通的精煉方法很難獲得成分均勻的合金靶材。
靶材分類
根據(jù)不同材質(zhì)分類,可分為00d100金屬靶材、陶瓷(氧化物、氮化物等、靶材和合金靶材。
根據(jù)形狀不同可分為矩形靶材、圓形靶材、圓柱形靶材、空心旋轉(zhuǎn)管靶材和異形靶材。
應(yīng)用領(lǐng)域
光學(xué)記錄靶材:
1、相變盤記錄薄膜:硒化碲靶材、硒化銻靶材、鍺銻碲合金靶材、鍺碲合金靶材等。
2、磁光盤記錄薄膜:鏑/鐵/鈷合金靶材、鋱/鏑/鐵合金靶材、鋱/鐵/鈷合金靶材、氧化鋁靶材、氧化鎂靶材、氮化硅靶材等。
3、CD反射膜:鋁靶材、鋁鈦合金靶材、鋁鉻合金靶材、金靶材、金合金靶材等。
4、光盤保護(hù)膜:氮化硅靶材、氧化硅靶材、硫化鋅靶材等。
半導(dǎo)體領(lǐng)域:
1、電極及布線膜:鋁靶材、銅靶材、金靶材、銀靶材、鈀靶材、鉑靶材、鋁硅合金靶材、鋁硅銅合金靶材等。
2、存儲(chǔ)電極薄膜:鉬靶材、鎢靶材、鈦靶材等;
3、粘合膜:鎢靶材、鈦靶材等。
4、電容器絕緣膜:鋯鈦酸鉛靶材等。
顯示靶材:
1、透明導(dǎo)電膜:氧化銦錫靶材、氧化鋅鋁靶材等。
2、電極布線膜:鉬靶材、鎢靶材、鈦靶材、鉭μm靶材、鉻靶材、鋁靶材、鋁鈦合金靶材、鋁鉭合金靶材等。
3、電致發(fā)光薄膜:硫化鋅摻雜錳靶材、硫化鋅摻雜鋱靶材、硫化鈣摻雜銪靶材、氧化釔靶材、氧化鉭靶材、鈦酸鋇靶材等。
磁記錄靶材:
1、垂直磁記錄薄膜:鈷鉻合金靶材等。
2、硬盤用薄膜:鈷鉻鉭合金靶材、鈷鉻鉑合金靶材、鈷鉻鉭鉑合金靶材等。
3、薄膜磁頭:鈷鉭鉻合金靶材、鈷鉻鋯合金靶材等。
4、人造晶體薄膜:鈷/鉑合金靶材、鈷/鈀合金靶材等。
其他應(yīng)用靶材:
1、裝飾膜:鈦靶材、鋯靶材、鉻靶材、鈦鋁合金靶材、不銹鋼靶材等。
2、低電阻膜層:鎳鉻合金靶材、鎳鉻硅合金靶材、鎳鉻鋁合金靶材、鎳銅合金靶材等。
3、超導(dǎo)薄膜:釔/鋇/銅/氧靶材、鉍/鍶/鈣/銅/氧靶材等;
4、工具鍍膜:氮化物靶材、碳化物靶材、硼化物靶材、鉻靶材、鈦靶材、鈦鋁合金靶材、鋯靶材、石墨靶材等。
綜上所述,可以看到不同靶材,可以按材料區(qū)分,可以按形狀區(qū)分,應(yīng)用的領(lǐng)域有半導(dǎo)體、 顯示、光學(xué)記錄、光學(xué)記錄等,像石墨靶材分類在其它應(yīng)用領(lǐng)域。
掃一掃關(guān)注我們